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測試與失效分析

Testing and Failure Analysis

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離子束切割拋光鍍膜系統(tǒng)(CP)

設(shè)備型號:GATAN MODEL 685
針對各類儲能業(yè)務(wù)需求,TIES力圖發(fā)展成為布局全面,面向市場,集測試分析、失效分析、資質(zhì)認(rèn)證、技術(shù)開發(fā)、工程放大、智能制造、高價(jià)值信息服務(wù)、高端培訓(xùn)為一體的研發(fā)型企業(yè)。 聯(lián)系我們

技術(shù)參數(shù)

.離子源:離子槍兩支配有稀土磁鐵的潘寧離子槍,高性能無耗材,拋光角度±10°, 每支離子槍可獨(dú)立調(diào)節(jié),離子束能量100 eV 到 8.0 keV,離子束流密度10 mA/cm2 峰值離子束直徑可用氣體流量計(jì)或放電電壓來調(diào)節(jié);

.真空系統(tǒng):干泵系統(tǒng)80 L/s 的渦輪分子泵配有兩級隔膜泵,壓力:5 x 10-6 torr 基本壓力,8 x 10-5 torr 工作壓力,真空規(guī)冷陰極型用于主樣品室;固體型用于前級機(jī)械泵,樣品空氣鎖Whisperlok專利技術(shù),無需破壞主樣品室真空即可裝卸樣品,樣品交換時(shí)間< 1 min


應(yīng)用范圍

用于EBSD樣品制備;截面樣品制備;

金屬材料(合金,鍍層);

石油地質(zhì)巖石礦物;光電材料;

化工高分子材料;新能源電池材料。


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